紫外光

10-27台灣政經

國研院攜手汎銓 攻克High-NA EUV製程檢測技術

國科會轄下國研院國儀中心今(27)日攜手材料分析大廠汎銓(6830-TW)發表「高數值孔徑極紫外光」(High-NA EUV)光阻材料微影製程的結構分析技術，透過鍍膜強化晶圓上的奈米結構，用於後續檢測分析，也是2奈米製程的關鍵檢測突破。國研院表示，此次為全球首度針對此製程成功鍍膜的研究成果，相關技術已獲全球極紫外光微影設備龍頭艾司摩爾於國際學術論壇引用，並協助汎銓打入國際大型半導體設備商與製造商的製程驗證分析服務供應鏈，展現台灣在先進半導體材料檢測與驗證領域的研發實力。