xLight

07-13美股雷達

《富比士》EUV霸權恐被打破？「這些技術」或2030年前重塑先進晶片製造

基於多項新興技術陸續崛起，全球尖端晶片的製造方式，最快可能在 2030 年前迎來重大變革。隨著人工智慧（AI）技術熱潮持續延燒，市場對尖端晶片的需求居高不下，然而全球先進晶片的供應，長期以來仍受限於少數幾家公司所掌握的關鍵技術與產能。根據《富比士》報導，雖然極紫外光（EUV）微影技術是目前業界製造最先進晶片的主流方案，但這並非是將微小電晶體「繪製」於矽晶圓上的唯一途徑。

06-28美股雷達

英特爾前執行長坐鎮！美AI新創公司想分食艾司摩爾獨佔已久的光刻機蛋糕

美國半導體新創公司 xLight 正試圖撼動荷蘭艾司摩爾 (ASML-US)在極紫外光刻 (EUV) 光源領域的壟斷地位。這家 2021 年成立於加州的新創企業，計畫以粒子加速器驅動的自由電子雷射 (FEL) 取代艾司摩爾現行 EUV 微影機中所採用的雷射等離子體 (LPP) 錫滴光源，並訂下 2028 年前造出可接入量產環境原型機的目標。