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南韓三星電子近期在3D DRAM研發上交出階段性成果:其16層垂直堆疊VS-DRAM(Vertically Stacked DRAM)已完成晶片級讀寫驗證,核心以「水平電容+GAA單元電晶體+Peri-on-Cell鍵合」重構1T1C架構,目標是把DRAM從平面微縮推進到Z軸堆疊,延續10奈米以下節點的位元密度提升。
2026-09-24
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南韓三星電子近期在3D DRAM研發上交出階段性成果:其16層垂直堆疊VS-DRAM(Vertically Stacked DRAM)已完成晶片級讀寫驗證,核心以「水平電容+GAA單元電晶體+Peri-on-Cell鍵合」重構1T1C架構,目標是把DRAM從平面微縮推進到Z軸堆疊,延續10奈米以下節點的位元密度提升。