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    ASML攜手晶片研究公司Imec打造實驗室 測試High-NA EUV

    根據路透周一 (3 日) 報導,全球最大半導體設備商艾司摩爾 (ASML-US) 已與比利時晶片研究公司 Imec 合作開設一個實驗室,用來測試其高數值孔徑極紫外光曝光機(High-NA EUV)。據了解,該實驗室位於艾司摩爾荷蘭總部德霍溫 (Veldhoven),經過多年的建設,將讓頂尖的晶片製造商與其他設備和材料供應公司有機會盡早使用這一價值 3.5 億歐元(約 3.8 億美元) 的最新設備。