GAA製程

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韓媒：三星美國泰勒晶圓廠3月測試EUV光刻機 加速2奈米GAA製程部署

外媒最新報導指出，南韓三星電子將於今年 3 月在美國泰勒一號工廠啟動 EUV 光刻機測試，隨後逐步導入蝕刻、沉積等設備，計畫下半年正式投產。《韓國經濟新聞 (KED)》周一(19 日) 報導，為加速進度，三星已向德州政府申請工廠臨時使用許可，可在滿足消防與安全條件下在竣工之前先行運作，並派遣大量「王牌級」工程師駐場，以穩定良率。