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10-30美股雷達

美新創Substrate宣布光刻新技術 ASML與台積電迎巨大挑戰

美國半導體新創公司 Substrate 28 日宣布，已成功開發出一款新型晶片製造設備，聲稱其技術可媲美甚至挑戰荷蘭巨頭 ASML(ASML-US) 的最先進光刻系統。這項突破性進展若得以實現，將可望重塑全球晶片製造格局，並為美國重奪半導體產業領導權提供關鍵輔助。