曝光

10-06國際政經

美中半導體設備攻防長期化！美智庫稱中國囤343台DUV、日媒指陸廠靠ASML設備庫存爭取時間

外媒最新報導指出，中國大陸半導體製造企業在美國與荷蘭出口管制下，仍以個案審批、既有庫存與國產研發「兩條腿走路」推進光刻能力。綜合美國智庫報告、《南華早報》及《日經亞洲》相關報導，外界估算中國目前取得的浸沒式深紫外(DUV)光刻機合計約343台，其中約270台為艾司摩爾(ASML)Twinscan NXT:1980i，這批設備雖非極紫外(EUV)，但配合多重曝光已可支撐7奈米邏輯、先進記憶體與AI加速器量產，並為中國國產整機研發爭取緩衝期。

09-08台股新聞

英特爾、三星不落隊！宣布參與ASML下一代12吋光罩技術

繼台積電(2330-TW)(TSM-US)之後，全球半導體大廠英特爾(INTC-US)、三星也相繼表態投入下一代12吋光罩技術，並進一步擴大與ASML在高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)領域合作。英特爾持續推進High NA EUV量產準備，三星更規劃2028年前後導入未來DRAM量產，並雙雙宣布參與12吋光罩技術。