致茂去年EPS 5.56元創兩年高 今年估半導體、光學測試設備續強

致茂去年EPS 5.56元創兩年高 今年估半導體、光學測試設備續強。(圖:AFP)
致茂去年EPS 5.56元創兩年高 今年估半導體、光學測試設備續強。(圖:AFP)

致茂 (2360-TW) 今 (25) 日召開法說會,並公布去年財報,稅後純益 23.81 億元,年增 26%,每股稅後純益 5.56 元;受惠半導體與光學測試方案需求強勁,加上產品組合優化,帶動去年全年獲利增幅大於營收,每股純益創 2 年高,並看好今年兩大產品動能將延續。

致茂去年營收 155.32 億元,年增 12%,毛利率 49%,年增 2 個百分點,營益率 18%,年增 3 個百分點,稅後純益 23.81 億元,年增 26%,每股稅後純益 5.56 元。

致茂董事會今日也決議通過,去年盈餘每股擬配發 4.5 元現金股利,以今日收盤價 209.5 元計算,殖利率約 2.14%。

展望今年,致茂看好,全球半導體晶片短缺、5G 與 HPC 晶片快速發展,帶動半導體、光學測試解決方案營收持續成長,包括 Burn-in Test、SLT 及溫控檢測設備、無線 RF 及 MCU 測試、CIS / VCSEL / ToF 測試等設備銷售。

致茂也持續聚焦綠能相關檢測設備,包含電動車電池芯 / 電池模組 / 電池包、智慧電網及 5G / 伺服器等電子測試需求。


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