臺積電2010年將擴大資本支出及產能

臺積電董事長張忠謀表示，該公司計劃在2010年提高資本支出、擴大產能并增加研發資金投入；另外，該公司已開始擴建在新竹的一個12英寸晶圓制造廠。

綜合外電1月19日報道，臺灣積體電路制造股份有限公司(簡稱：臺積電)董事長張忠謀19日表示，隨著晶片需求的不斷增加，臺積電計劃在今年提高資本支出、擴大產能并增加研發資金投入。

張忠謀在一個商業論壇上表示，臺積電計劃將2010年的研發支出由2009年的新臺幣216億元提高25%，至新臺幣270億元（合8.5億美元），2010年的資本支出也將高于2009年的27億美元。

他還表示，已經開始擴建在新竹的一個12英寸晶圓制造廠。新廠建成后預計將于第三季度投入大規模生產。

張忠謀稱，許多IT公司都有望在2010年有出色表現，2011年的前景也頗為樂觀。

這意味著，在經歷兩年的低迷期后，晶片產業的前景正在改善。臺積電預計2010年晶片市場需求旺盛，并計劃聘請超過3,000名工程師。張忠謀曾在2009年10月份表示，他預計臺積電2010年的收入將達到創紀錄水平。

臺積電在公告中稱，新工廠將使用28納米工藝，并將研發22納米工藝。

臺積電還計劃擴建另一座位于臺南的12英寸晶圓制造廠，并將在2010年年底前完工。

該公司將在1月28日的投資者會議上公布計劃增加多少產能。

(付影 編輯)

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