光源

10-16美股雷達

中國EUV光源新樣機公開！ASML還能睡得安穩？

中國半導體設備業者朗道燧岩 (Langdao Silex) 在上海第 26 屆中國國際工業博覽會上，首次公開展示極紫外光 (EUV) 光源系統樣機。據現場工作人員介紹，該系統國產化率達 90%，可用於晶片曝光測試，但距離量產仍需 3 至 5 年。

08-11美股雷達

馬斯克挑戰ASML EUV獨霸地位？TeraFab傳擬改用FEL光源造晶片

特斯拉 (TSLA-US) 執行長馬斯克旗下傳出籌備中的晶圓廠計畫「TeraFab」，可能捨棄艾司摩爾 (ASML-US) 獨家壟斷的極紫外光（EUV）雷射誘發電漿（LPP）光源技術，改採自由電子雷射（FEL）路線產生曝光所需的短波長光源。若消息屬實，這將是半導體先進製程數十年來最核心的光源技術首度出現挑戰者，牽動的不只是艾司摩爾的市場地位，更可能改寫晶圓代工業長期倚賴單一供應商的產業結構。