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SSC800

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    2026-11-08
  • A股

    中國半導體設備自主化再有新進展。上海微電子裝備集團(SMEE)在第九屆中國國際進口博覽會(進博會)展示自主研發的新一代前段製程乾式掃描投影曝光機SSC800、SSB800,涵蓋KrF與I-line兩大技術路線。第九屆中國國際進口博覽會於11月5日至10日在上海舉行,SMEE此次在中國館展出SSC800、SSB800設備模型,透過透明剖面設計呈現設備內部光學系統及機電結構,展示中國前段製程曝光機自主化的階段性成果。

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